ASTM F2113-2001(2007) 薄膜电子设备用高纯度金属溅涂靶杂质含量和等级的分析和报告标准指南

作者:标准资料网 时间:2024-05-15 12:38:21  浏览:9382   来源:标准资料网

【英文标准名称】:StandardGuideforAnalysisandReportingtheImpurityContentandGradeofHighPurityMetallicSputteringTargetsforElectronicThinFilmApplications
【原文标准名称】:薄膜电子设备用高纯度金属溅涂靶杂质含量和等级的分析和报告标准指南
【标准号】:ASTMF2113-2001(2007)
【标准状态】:现行
【国别】:
【发布日期】:2001
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(US-ASTM)
【起草单位】:F01.17
【标准类型】:(Guide)
【标准水平】:()
【中文主题词】:
【英文主题词】:electronics;purityanalysis;puritygrade;sputtering;target;thinfilm
【摘要】:1.1Thisguidecoverssputteringtargetsusedasthinfilmsourcematerialinfabricatingsemiconductorelectronicdevices.Itshouldbeusedtodeveloptargetspecificationsforspecificmaterialsandshouldbereferencedtherein.1.2Thisstandardsetspuritygradelevels,analyticalmethodsandimpuritycontentreportingmethodandformat.1.2.1Thegradedesignationisameasureoftotalmetallicimpuritycontent.Thegradedesignationdoesnotnecessarilyindicatesuitabilityforaparticularapplicationbecausefactorsotherthantotalmetallicimpuritymayinfluenceperformance.
【中国标准分类号】:L14
【国际标准分类号】:29_045
【页数】:2P.;A4
【正文语种】: